快速退火爐的主要技術、行業特點

行業特點：

芯片熱處理設備（真空快速退火爐）廣泛應用在IC晶圓、LED晶圓、MEMS、化合物半導體和功率器件等多種芯片產品的生產，和歐姆接觸快速合金、離子注入退火、氧化物生長、消除應力和致密化等工藝當中，通過快速熱處理以改善晶體結構和光電性能，具有技術指標高、工藝復雜、專用性強的特點。

產品特點：快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

1、真空快速退火爐，有真空型號(10mTorr )；快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

2、可加入多種氣體使用，如惰性氣體、氧氣等；

3、控制方式：可編程控制器，人機界面控制，17英寸觸摸屏；

4、可存儲100個程序，每個程序最多分為100段控制；

5、全自動智能控制，包括溫度、時間、氣體流量、真空度、循環水均可自動設置；

6、優異的溫控均勻性，極佳的工藝重現性、可靠性；

7、配備定壓模塊，可穩定腔室壓力；

8、信息記錄：每個制程自動記錄存檔。

技術指標：

1、最高溫度：1200攝氏度；

2、升溫速率：150攝氏度/秒；

3、降溫速度：200攝氏度/分鐘 (1000攝氏度-->300攝氏度)；

4、溫度精度：±0.5℃；快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

5、溫控均勻性：≤ 0.5%設定溫度；

6、加熱方式：紅外鹵素燈，頂部加熱；

7、真空度：10mTorr以下。

設備說明：

真空快速退火爐主要由真空腔室、加熱室、進氣系統、真空系統、溫度控制系統、氣冷系統、水冷系統等幾部分組成。

真空腔室：快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

真空腔室是真空快速退火爐的工作空間，晶圓在這里進行快速熱處理。我司專利設計的真空腔室以專用合金為主體、高純石英視窗為隔板，組成密閉空間。

加熱室：

加熱室以多個紅外燈管為加熱元件，以耐高溫合金為框架、高純石英為主體，包括專利設計的加熱器固定裝置和冷卻裝置確保了加熱燈管在高功率工作時環境溫度的適宜性，改善散熱環境、提高產品性能、延長產品使用壽命。

進氣系統：快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

真空腔室尾部有進氣孔，精確控制的進氣量用來滿足一些特殊工藝的氣體需求。獨特設計的進氣孔布局，可以確保進入工藝氣體均勻的分布在被熱處理工件上。

真空系統：

根據設備尺寸及真空度計算，選用進口真空泵機組。在真空泵和真空腔室之間裝有高真空電磁閥，可以有效確保腔室真空度，同時避免氣體倒灌污染腔室內的被處理工件。在管路上裝有高真空檢測裝置，用來檢測真空度。在管路上裝有壓力開關，用來監測壓力，超出設定范圍會自動報警。?快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

溫度控制系統：?

溫度控制系統由溫度傳感器、溫度控制器、電力調整器、可編程控制器、PC及各種傳感器等組成。采用17寸帶觸摸功能的顯示器作為控制、監測窗口，可監測設備的加熱功率、溫度、水流量、氣體流量、真空度等工況，可實時監視工藝過程曲線并具備存儲功能。

氣冷系統：?

本設備除了自然冷卻方式之外，還具備強制冷卻方式。加熱元件冷卻采用專利設計的冷卻裝置吹掃大量惰性氣體在加熱元件表面來降低加熱元件的工作溫度，提高性能和延長使用壽命。真空腔室的冷卻是通過進氣系統向腔室內充入惰性氣體，來加速冷卻被熱處理工件，滿足工藝使用要求。

水冷系統：

該設備水冷系統主要包括真空腔室、加熱室、各部位密封圈的冷卻用水。冷卻水管路上裝有水流量計，通過冷卻水量的控制確保設備溫度正常、安全。管路上還裝有水溫監測器，設有溫度上下限，超出范圍會自動報警。

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我司在設備維護性方面進行了大量創新，設備的后期保養維護的便利性和成本方面都有了大幅優化，可以為客戶提供更優質的服務。快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘