快速退火爐的作用，快速退火爐詳細介紹

快速退火爐快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

快速退火爐是利用鹵素紅外燈做為熱源，通過極快的升溫速率，將晶圓或者材料快速的加熱到300℃-1200℃，從而消除晶圓或者材料內部的一些缺陷，改善產品性能。快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

快速退火爐采用先進的微電腦控制系統，采用PID閉環控制溫度，可以達到極高的控溫精度和溫度均勻性，并且可配置真空腔體，也可根據用戶工藝需求配置多路氣體。快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

• ·  中文名

• 快速退火爐

• ·  最高溫度

• 1200攝氏度

• ·  升溫速率

• 150攝氏度/秒

• ·  降溫速率

• 200攝氏度/分鐘（1000攝氏度降到300攝氏度）

• 溫度精度

• ±0.5攝氏度

• 溫控均勻性

• ≤0.5%設定溫度

• 加熱方式

• 紅外鹵素燈，頂部加熱

• 真空度

• 10mTorr以下

· 

產品特點

快速退火爐（芯片熱處理設備）廣泛應用在IC晶圓、LED晶圓、MEMS、化合物半導體和功率器件等多種芯片產品的生產，和歐姆接觸快速合金、離子注入退火、氧化物生長、消除應力和致密化等工藝當中，通過快速熱處理以改善晶體結構和光電性能，技術指標高、工藝復雜、專用性強。快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

應用領域快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

1.快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN)；

2.離子注入/接觸退火；快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

3.金屬合金；快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

4.熱氧化處理；快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

5.化合物合金（砷化鎵、氮化物等）；快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

6.多晶硅退火；快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

7.太陽能電池片退火；快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

8.高溫退火；快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

9.高溫擴散。快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

設備說明快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

快速退火爐主要由真空腔室、加熱室、進氣系統、真空系統、溫度控制系統、氣冷系統、水冷系統等幾部分組成。

真空腔室：真空腔室是快速退火爐的工作空間，晶圓在這里進行快速熱處理。

加熱室：加熱室以多個紅外燈管為加熱元件，以耐高溫合金為框架、高純石英為主體。

進氣系統：真空腔室尾部有進氣孔，精確控制的進氣量用來滿足一些特殊工藝的氣體需求。

真空系統：在真空泵和真空腔室之間裝有高真空電磁閥，可以有效確保腔室真空度，同時避免氣體倒灌污染腔室內的被處理工件。

溫度控制系統：溫度控制系統由溫度傳感器、溫度控制器、電力調整器、可編程控制器、PC及各種傳感器等組成。

氣冷系統：真空腔室的冷卻是通過進氣系統向腔室內充入惰性氣體，來加速冷卻被熱處理的工件，滿足工藝使用要求。

水冷系統：水冷系統主要包括真空腔室、加熱室、各部位密封圈的冷卻用水。

硬件更換快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

1.加熱燈管更換：加熱燈管超過使用壽命或無法點亮時需進行更換。加熱燈管的使用壽命為3000小時，高溫狀態下會降低其使用壽命。快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

2.真空泵油更換：在使用過程中，請每季度固定觀察1次真空油表，當油表顯示油量低于1/3時請添加真空泵潤滑油到油表一半以上。快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘

3.熱電偶更換：當熱電偶測溫不正常或者損壞時需進行更換。熱電偶的正常使用壽命為3個月，隨環境因素降低其壽命。

4.O型圈的更換：O型圈表面有明顯破損或者無法氣密時需進行更換，其壽命受外力以及溫度因素影響。

保養周期快速退火爐,RTP,RTA,快速退火爐RTP,招聘